Die META 1100 ist eine vielseitige Batchanlage zum thermischen Widerstandsverdampfen von Al, Cu, Au, Ag oder NiCr mit anschließender Schutzbeschichtung, welche auch zur Dickschichtabscheidung für EMV-Schichten genutzt werden kann. Der horizontale Aufbau der Anlage ermöglicht dabei eine ergonomisch bedienerfreundliche Bestückung mit Substraten.
Die vollautomatische Kurztaktanlage META TABLE wurde für die Integration in eine vollautomatische Produktionslinie mit vor- und nachgelagerten Fertigungsschritten entwickelt. Es ist eine horizontale Sputter-down Anlage ohne Substratrotation, die vor allem in der Kosmetik-Verpackungsindustrie in Kombination mit Lackieranlagen verwendet wird. Die Taktzeit beträgt ca. 130 Sekunden.
Produktionserprobte PVD-Anlage für ta-C Beschichtung mit hohem Durchsatz
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DREVA 1050 LAM
Beschichtungsvolumen: Ø 1050 mm x 1100 mm Laser-Arc-Modul (LAM) für ta-C Abscheidung Prozesstemperatur: <180°C Schichtdicke: bis >30µm ARC-Quellen für Metallionen-Ätzen und Haftschicht Option: Planar-oder Rohr-Magnetrons für HiPIMS-Haftschicht
DIE universelle PVD-Hartstoff-
beschichtungsanlage. Seit Jahren optimiert und erprobt.
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DREVA 600C
Beschichtungsvolumen: Ø 500 mm x 500 mm Prozesstemperatur: < 500°C ARC-Quellen and Stromversorgungen sind VTD geschützte Lösungen Optional: Magnetrons mit HiPIMS Stromversorgungen Kompaktes Rahmendesign
High-End PVD-Beschichtungsanlage f. ta-C Schichten auf Basis DREVA 600
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DREVA 600 LAM
Beschichtungsvolumen: Ø 500 mm x 500 mm Laser-Arc-Modul (LAM) für ta-C Abscheidung, optional mit Makropartikelfilter Prozesstemperatur: <180°C Arc-Quellen für Metallionen-Ätzen und Haftschicht Option: Planar- oder Rohr-Magnetrons für HiPIMS-Haftschicht
PVD-Kurztaktanlage für die Einbindung in vollautomatische Großserien-Produktionsprozesse
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META CIRCLE
Die vollautomatische Vier-Kammeranlage META CIRCLE wurde für die Integration in vollautomatische Taktstraßen mit bis zu 8 Spritzgießanlagen entwickelt. Der horizontale Substrattransport vereinfacht die Substrathalterung und reduziert die Kosten für das Handling.
Die META CIRCLE umfasst 4 Stationen: Be- und Entladung, Plasma-Vorbehandlung, Metallisierung, Plasma-Nachbehandlung. Der Hochrate-Magnetron-Sputterprozess ermöglicht die Verwendung verschiedenster metallischer Beschichtungsmaterialien.
PVD Inlineanlage: individuelles Design mit Möglichkeit zur Einbindung in die automat. Produktion
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Inlineanlage
PVD Inline Systeme sind technologisch und technisch flexibel spezifizierbar, ermöglichen kurze Taktzeiten für höchste Produktivität und können in eine voll-automatisierte Produktion integriert werden.
Individuelle Anlagenfertigung für Ihr Produkt und Ihren Prozess.
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Custom Design
Wir planen und fertigen in enger Zusammenarbeit mit Ihren Kunden individuelle Anlagenlösungen. Die Herstellung der Anlagen erfolgt auf Wunsch mit angepasster technischer Spezifikation mit dem Ziel einer wirtschaftlichen und prozessoptimierten Lösung - angefangen bei der Konstruktion bis zur Inbetriebnahme.
Die VERA 700C ist die große Schwester der VERA 450C. Sie ist auf einem Rahmengestell montiert, sehr kompakt und kann frei im Labor aufgestellt oder in eine Reinraumwand integriert werden. Die VERA 700C ist ideal für optische Beschichtungen oder Metallisierung von Bauteilen geeignet und wird in Entwicklungslaboren und zur Serienfertigung eingesetzt.
Die VERA 450C ist ideal für einfache optische Beschichtungen oder Metallisierung kleiner Bauteile geeignet und wird in Entwicklungslaboren und zur Serienfertigung eingesetzt.
Plasmabehandlungsanlagen für Polymere zur Aktivierung der Oberfläche
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PLASMA 870
Die Plasmaanlage ist für die Aktivierung und Reinigung von Substratoberflächen von Reflektorteilen als Vorbehandlung vor Lackierprozessen konzipiert. Plasma-vorbehandelte Oberflächen zeichnen sich durch eine erhöhte Oberflächenenergie aus, die die Benetzbarkeit verbessert und zu einer besseren Haftung von Beschichtungen auf Kunststoffen führt. Aufgrund der kurzen Taktzeit von 60s kann die PLASMA 870 in einen vollautomatischen Produktionsprozess integriert werden.
Die META V 1800 ist eine vertikale Doppeltür-Batchanlage, insbesondere für das thermische Widerstandsverdampfen von Al.
Die META V 1800 kann mit Plasma-Polymerisation (MF-PECVD) zum Aufbringen einer SiOx Schutzschicht auf dem Metall ausgerüstet werden.
Das vertikale Doppeltür-Konzept erfordert eine geringere Aufstellfläche gegenüber horizontalen Batchanlagen und ermöglicht einen effizienten Betrieb der Anlage durch das wechselseitige direkte Bestücken der Drehkörbe mit Substraten.
Vollautomatische, kompakte PVD-Kurztaktanlage für die Metallisierung von Kleinteilen
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MINIMET
Die MINIMET ist eine vollautomatische PVD-Kurztaktanlage für die Einbindung in einen automatischen Fertigungsprozess mit Roboter-Be- und -Entladung. Sie verfügt über 4 Stationen: Be- und Entladung, Plasma-Vorbehandlung, Metallisierung, Plasma-Nachbehandlung.
Durch die kompakte Bauweise und geringe Aufstellfläche kann die MINIMET in unmittelbarer Nähe zu Spritzgießanlagen positioniert werden. Mit ihrer Taktzeit von 40 Sekunden kann sie die Produkte von bis zu 3 Spritzgießanlagen beschichten.
